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電鍍瓶的電鍍技術發展方向

來源:本站 發布時間:6月 2023 瀏覽人次:1483

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電鍍瓶技術發展到今天,已經成為重要的現代加工技術,電鍍的功能性用途則越來越廣泛。尤其是在電子工業、通信和軍工、航天等領域大量在采用功能性電鍍技術。電鍍瓶的電鍍技術發展方向有哪些?下面由鄆城佳盛玻璃有限公司的時忽然人員給大家普及一下。


1.無氰堿性亮銅;在銅合金上一步完成預鍍與加厚,鍍層厚度可達10μm以上,亮度如酸性亮銅鍍層,若進行發黑處理可達漆黑效果,已在1萬升槽正常運行兩年。


2.無氰光亮鍍銀;普通型以硫代硫酸鹽為主絡合劑,高級型以不含硫的有機物為主絡合劑。全光亮鍍層厚度可達40μm以上,鍍層表面電阻~41μΩ·㎝,硬度~HV101.4,熱沖擊250℃合格,非常接近氰化鍍銀的性能。


3.無氰自催化化學鍍金;主鹽采用Na3[Au(SO3)2],金層厚度可達1.5μm,已用在高密度柔性線路板和電子陶瓷上鍍金。


4.非甲醛自催化化學鍍銅;用于線路板的通孔鍍和非導體表面金屬化。革除有毒甲醛代之以廉價無毒次磷酸鹽,目前國內外尚無商業化產品。已基本完成實驗室研究,沉積速度3~4μm/h,壽命達10循環(MTO)以上,鍍層致密、光亮。但有待進一步完善和進行中試考驗。


5.純鈀電鍍;Ni會引發皮炎,歐盟早已拒絕含Ni飾品進口,鈀是最佳的代Ni金屬。本項目完成于1997年,包括二種工藝,一是薄鈀電鍍,厚度0.1~0.2μm,已用在白銅錫上作為防腐裝飾性鍍層和防銀變色層;二是厚鈀電鍍,厚度達3μm無裂紋(目前的國際水平),因鈀比較昂貴,目前尚未進入國內市場。


6.純金電鍍;主鹽為K[Au(CN)2],屬微氰工藝。鍍層金純度99.99%,金絲(30μm)鍵合強度>5g,焊球(25μm)抗剪切強度>1.2Kg。努普硬度H


7.白鋼電鍍;有Pd(60)Ni(40)和Pd(80)Ni(20)兩種,已在電子產品中用作代金鍍層和防銀變色層。


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